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蝕刻製程
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加速特徵相關的乾式蝕刻製程發展- 電子技術設計 - EDN Taiwan
在乾式蝕刻中,由於與氣體分子的碰撞和其他隨機熱效應,加速離子的軌跡 ... 這些不均勻且特徵相關(feature dependent;FD)的蝕刻速率使半導體製程設計 ...
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