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反應式離子蝕刻機／Reactive Ion Etching :: 美體產業公開資訊

美體產業公開資訊，(一)矽基材質的蝕刻，製程氣體是以氟離子電漿(Fluoride-based)為基礎，包含二氧化矽(SiO2)、氮化矽(SiN)與多晶矽(Poly-Si)等材料蝕刻， ...

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