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乾蝕刻技術 - 微奈米光機電系統實驗室

蝕刻 沒有液態的蝕刻. 溶液，主要分為物理濺. 擊或離子銑削、電漿蝕. 刻、與介於兩者之間的. 活性離子蝕刻三類，右. 圖是三者蝕刻特性與壓. 力、激發能量的分類關. 係圖。

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