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北美智權報第110期：TRIZ與半導體製程技術(二)

本案所討論的「乾蝕刻」(Dry Etching)技術是半導體元件製程的重要步驟之 ... 如圖五所示，本發明為一非對稱式之IC導線架設計圖，專利名稱為「非對稱 ...

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