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薄膜製程目的
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CMP - 半導體
為了達成此目的,晶片製造商使用名為化學機械平坦化或簡稱CMP 的製程。化學機械平坦化會移除晶圓 ... 在晶圓表面堆疊的不同薄膜各自具有不同的硬度,所以去除速率不同。
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