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薄膜製程半導體
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半導體設備系列:薄膜生長設備,國產突破可期 - 每日頭條
CVD:用於沉積介質絕緣層、半導體材料、金屬薄膜。 ... 生產的exiTin H630 TiN金屬硬掩膜PVD系統是國內首台專門針對55-28nm製程12寸金屬硬掩膜設備。
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