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臨場監控之薄膜製程系統及其方法- Future Tech Pavilion, FUTEX

本技術以干涉光學之導納軌跡法薄膜結構設計、超高真空鍍膜與監控設備及薄膜材料 ... 下世代半導體曝光技術(photolithography) 亦可提供13.5 nm 極紫外光學元件之薄膜製 ...

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