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繞開光刻機,華為量子專利新突破,擺脫摩爾定律的限制 - 資訊咖
量子晶片技術對於光刻機的要求並不高,完全可以繞開對ASML高精度光刻機的依賴,量子晶片架構由基板、M個子晶片、耦合結構和腔膜結構共同組成,通過耦合 ...
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