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導入FinFET製程技術聯電14奈米後年亮相- 熱門新聞 - 新電子

聯電 執行長孫世偉表示，由於晶圓從28跨入20奈米製程以下的微縮過程中，勢必得使用雙重曝光(Double Patterning)微影技術才能實現，而此一技術無論是微影機台或人力研發 ...

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