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包含该单体的聚合物以及包含所述聚合物的光致抗蚀剂组合物的 ...

使用这些单体制备的聚合物可以在光致抗蚀剂中提供对比度。但是，随着半导体器件临界尺寸(CD)的缩小，制备器件设计结点等于或小于45nm的器件仍需要能提供窄CD控制的较高分辨 ...

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