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制造工程与技术原理 - 第 453 頁 - Google 圖書結果

一般显影之后要进行清洗,以停止显影并去除残留的化学物质。 ... 而后,采用硫酸和过氧化氢溶液( HSO - Hz Oz )或等离子体将晶片表面的光刻胶去除干净。

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