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WAFER四大製程@ 這是我的部落格 - 隨意窩

沒錯!!所以就有了磊晶這種東東磊晶可以分為. CVD(chemical vapor deposition)化學氣相沉積 【1】原理- 氣相反應物在Si suface發生化學反應，成長我們所要的薄膜【2】 ...

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