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直流磁控濺鍍機之仿真系統及均勻度改善探究

成電漿，而電漿內的氬離子在負電壓的吸引下撞擊靶材，並將其原子濺射至基材. 形成薄膜。因此為了提高均勻度，而又不改變現有磁控濺鍍系統的主要結構下，.

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