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電漿輔助化學氣相沈積 - 國立中興大學-光電半導體製程中心

電漿輔助化學氣相沈積. 英文名稱. PECVD 1 (Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition) ... Heater：實際溫度70℃以下才可破真空。 抽真空時注意腔體壓力，壓力到達時 ...

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