將以四階段碳化矽磊晶技術,在2cm x 2cm大小的Si(100)上,在C3H8-SiH4-H2以及CH4-SiH4-H2系統中,磊晶成長3C-SiC/Si(100),並量測碳化矽材料內部結構及晶片的粗糙度。
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