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矽量子點鑲嵌在氮化矽薄膜之合成與光學

由於上述所說的矽基板之晶格常數與SiNx之晶格常數差太多，所以. 先在矽基板上以1:24之SiH4對N2O的氣流比在HDP-CVD中沉積一層. 約200 nm之SiO2薄膜層，作用為SiNx薄膜層 ...

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