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真空鍍膜

【原理】. 真空鍍膜是在高真空狀態下利用物理方法在物件的表面鍍上一層薄膜的技術。 真空是指氣壓低於一個大氣壓的氣體狀態。在真空狀態下，單位體積中的氣體分子數大.

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