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不受摩爾定律限制，ASML 開始設計1 奈米製程曝光設備

在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾（ASML）合作研發半導體曝光機的比利時半導體研究機構IMEC 正式公布了3 奈米及以下製程的在微縮層面的相關技術細節 ...

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