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逼近皮米時代！ASML將於2021年推下一代3nm EUV光刻機

逼近皮米時代！ ... 光刻機主要面向3nm時代，目前台積電和三星的制程工藝路線圖已經到了3nm，要想讓技術盡快落地到實際，EXE:5000系列EUV光刻機的研發極為重要。

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