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環氧樹脂拋光方法
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次世代IC 製程-ECMP 所需拋光墊之研製研究成果報告(精簡版)
中,一項業界廣為運用的方法就是化學機械拋光技術。一般相信CMP 製程仍然是進入65 ... 本研究主要可分為下列四大部分:調製拋光墊—添加不同比例之環氧樹脂及液態橡膠以.
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