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物理氣相沉積設備
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https://www.tiri.narl.org.tw/Files/Doc/Publication/InstTdy/173/01730150.pdf
電漿輔助化學氣相沉積法於矽薄膜太陽能電池的應用
首先,對電漿物理、PECVD 設備及製程原理加以闡述。第二部分簡. 介不同的電漿源及不使用電漿的熱燈絲化學氣相沉積對矽薄膜成長的影響。最後,量產矽薄膜的PECVD.
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