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物理氣相沉積設備
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半導體PVD設備龍頭打破壟斷未來國產化有望進一步提升 - 壹讀
薄膜沉積是晶圓加工中的關鍵流程之一,主要分為:物理氣相沉積PVD和化學氣相沉積CVD。 物理氣相沉積的過程中不發生化學反應,只發生物質的相變等物理變化 ...
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