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三種常見的薄膜材料物理氣相沉積方法(PVD) - 人人焦點

三種常見的薄膜材料物理氣相沉積方法(PVD). 2020-12-05 振華真空設備. 常見的沉積薄膜的方法，包括：真空蒸鍍（vacuum evaporation），磁控濺射（magnetron ...

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