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物理氣相沉積設備
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PVD 簡述 - 永源科技
其中物理氣相沉積有快速的沉積速率以及較精準的膜厚控制,藉由該鍍膜系統搭配的合金靶材可以控制薄膜的成份及比例,所以PVD是目前工業最為常用的鍍膜技術,而PV...
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