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PVD濺鍍原理

PVD是英文Physical Vapor Deposition，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制做技術。 2. PVD鍍膜技術的原理—.

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