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物理氣相沉積設備
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物理氣相沉積_百度百科
物理氣相沉積 (Physical Vapor Deposition,PVD)技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態原子或分子,或部分電離成離子, ...
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