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磁控濺鍍法缺點 - Newyokc

王士維, “利用射頻磁控濺鍍法製備六七八元高熵氮化物薄膜及其性質探討”, 2006, ... 反應性射頻磁控濺鍍原理濺鍍（sputtering ）製程是使用電漿（plasma ）對靶材進行 ...

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