濕式蝕刻主要是利用有機溶液對光阻進行結構性的破壞,使光阻溶於有機. 溶液中,達成去光阻之目的。以這種方法進行光阻去除的溶劑,主要有丙酮. (Acetoone)及芳香族(phenol ...
確定! 回上一頁