進行 mesa etching 通常有兩種選擇,早期選用酸性溶液進行化學濕式蝕刻(chemical wet etching),通常用來蝕刻砷化鎵相關材料的蝕刻液為硫酸或磷酸混合雙氧水及水稀釋後的 ...
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