你即將離開本站

並前往https://ppfocus.com/0/scdbb384c.html

4、干法蝕刻(dry etch)原理介紹 - 人人焦點

物理蝕刻主要是用氬氣（Ar）轟擊wafer表面材料，由於Ar是惰性氣體，不會影響plasma的化學性質，物理蝕刻效果明顯。化學蝕刻主要用含碳氟氣體（CXFY）， ...

確定！ 回上一頁

查詢 「濕蝕刻原理」的人也找了：

  1. 蝕刻製程ppt
    2.
  2. 乾蝕刻濕蝕刻比較
    3.
  3. 蝕刻是什麼
    4.
  4. 乾蝕刻機台
    5.
  5. 電漿蝕刻氣體
    6.
  6. 乾式蝕刻原理
    7.
  7. 蝕刻選擇比定義
    8.
  8. 電漿蝕刻原理
    9.