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半導體濕蝕刻洗淨設備 - PDF4PRO

氫氟酸(HF). 主要用來蝕刻SiO2與石英相關. 部品的洗淨。 雙氧水(H2O2) 使用來將矽氧化，可以做為清. 除微塵。 硫酸(H2SO4). 與 ...

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