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淺溝槽隔離sti
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浅沟槽隔离(STI)刻蚀工艺条件优化 - 米米图书馆
浅沟槽隔离 技术是一种新的MOS集成电路隔离方法,它可以在全平坦的条件下消除局部氧化(LOCOS)技术的“鸟嘴”缺陷,绝缘层可以更厚,可以减少电极间的漏电流和承受更大的击穿 ...
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「淺溝槽隔離sti」
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Shallow trench isolation
淺溝槽隔離層
sti淺溝槽絕緣
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