淺溝槽隔離,CN103227143B - 浅沟槽隔离工艺- Google Patents,本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种浅沟槽隔离工艺,通过分步对硅衬底和氮化硅层进行刻蚀工艺, ...
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