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淺溝槽隔離sti
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微纳加工技术_工艺模块_STI 浅槽隔离 - CSDN博客
工艺模块文章目录工艺模块浅槽隔离LOCOS 隔离浅槽隔离因为第一层布线有可能引起器件的反型,所以需要隔离;LOCOS 隔离氧化层一般500nm厚;22nm工艺的 ...
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「淺溝槽隔離sti」
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