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SHISEIDO (資生堂) 敏感話題淨荳乳液新改版成份| CosDNA

成份 概略特性 粉刺 刺激 安心度 Water. 水 溶劑 1 Dipropylene glycol. 雙丙甘醇 溶劑, 保溼 1‑2 Butylene Glycol. 丁二醇, 1, 3‑丁二醇 溶劑, 香料, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼 1 0 1

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