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浸潤式微影技術原理
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(11) 證書號數
微影 製程的主流技術。 所謂的雙重曝光技術,即是將原本單一網密的半導體線. 路圖形分成兩個交錯或互補的圖案,並透過浸潤式微影等之. 微影技術分別轉印,再將曝光在晶圓上 ...
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