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第二章、實驗儀器架構與基本原理

濺鍍時電漿氣體用)，氧氣O2 氣瓶(純度99.9995%，與鋅靶產生反應. 式濺鍍成為氧化鋅用)，氮氣N2 氣瓶(提供破真空或靶材產生氮化物之. 濺鍍薄膜用). (3)水路系統：.

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