(3) 表面淨化:溫控區第I、II、III區溫度由室溫調整至氮化處理所需溫度,並同時. 將載流氣體N2從切換成H2,升溫過程約30分鐘,以去除基板表面的氧化物。 (4) 氮化處理: ...
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