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氮化鈦薄膜之光電特性與其在氮化鎵上歐姆接觸特性之研究

本論文主要的研究方向是：採用濺鍍(sputtering)系統，以直流磁控濺鍍法(DC magnetron sputtering deposition)沉積氮化鈦(TiN)薄膜。所使用的製程氣體為氬 .

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