你即將離開本站

並前往http://www.lpls.net/tech/1529527

盛美上海推出新型化合物半導體系列設備加強濕法工藝產品線

... 砷化鎵(GaAs)、氮化鎵(GaN) 和碳化矽(SiC) 等工藝。化合物半導體濕法工藝產品線包括塗膠設備、顯影設備、光阻去膠設備、濕法蝕刻設備、清洗設備和 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「氮化矽蝕刻」的人也找了：

  1. 氮化矽蝕刻液
    2.
  2. 氮化矽乾蝕刻
    3.
  3. icp蝕刻原理
    4.
  4. 蝕刻製程ppt
    5.
  5. 濕蝕刻等向性
    6.
  6. 半導體 乾 蝕刻技術
    7.
  7. 等向性蝕刻英文
    8.
  8. 蝕刻終點 偵 測
    9.