你即將離開本站

並前往https://www.spts.com/zh-Hant/categories/xef2-release-etch

XeF2 釋放式蝕刻

Xactix® XeF2 釋放式蝕刻系統 ... 使用二氟化氙对矽進行等向性蝕刻是釋放MEMS 裝置的理想解決方案。XeF2 展現了幾乎所有標準半導體材料(光阻層、二氧化矽、氮化矽及鋁) 對於 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「氮化矽蝕刻」的人也找了：

  1. 氮化矽蝕刻液
    2.
  2. 氮化矽乾蝕刻
    3.
  3. icp蝕刻原理
    4.
  4. 蝕刻製程ppt
    5.
  5. 濕蝕刻等向性
    6.
  6. 半導體 乾 蝕刻技術
    7.
  7. 等向性蝕刻英文
    8.
  8. 蝕刻終點 偵 測
    9.