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應用於ULSI成長氧化層前及化學機械研磨後的新溶液清洗

新的溶液包括四甲基氫氧化銨(TMAH)、四乙基氫氧化銨(TEAH)、四丙基氫氧化銨(TPAH)及四丁基氫氧化銨(TBAH)，這些介面活性劑可以籍由改善晶圓表面的親水性而得到更好的 ...

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