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氫氟酸用途
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RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司
利用氫氟酸來蝕刻二氧化矽層的機制中,決定蝕刻速率的是[HF2-]濃度,若HF濃度保持固定且緩衝溶液中NH4F能提供大量的之F-,蝕刻速率就可保持穩定。同時為了提高反應的均勻性 ...
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