你即將離開本站

並前往https://books.google.com.tw/books?id=oGFclNTfs4wC&pg=PA104&lpg=PA104&dq=%E6%B0%A7%E9%9B%BB%E6%BC%BF%E8%9D%95%E5%88%BB&source=bl&ots=_-1xdVjewi&sig=ACfU3U3Jiqc5dmDkw8yBwLn18bcPH8WPBw&hl=zh-TW&sa=X&ved=2ahUKEwjeyr_O7sf3AhVKAqYKHfygBNsQ6AF6BQiwAhAD

深次微米矽製程技術 - 第 104 頁 - Google 圖書結果

o 表 2.16 主要的氟化有機高分子介電常數分解溫度( °C )備註 2.5 ~ 2.7 175 °C (在 ... N ) 1.93 抗化學性佳容易氧電漿蝕刻材料鍍膜方式蒸氣沉積高分子化聚對二甲苯(不 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「氧電漿蝕刻」的人也找了：

  1. 氧電漿原理
    2.
  2. 電漿原理ppt
    3.
  3. 電漿蝕刻原理
    4.
  4. 蝕刻製程ppt
    5.
  5. 電漿蝕刻機
    6.
  6. 射頻電漿原理
    7.
  7. 台積電蝕刻
    8.
  8. 電漿蝕刻步驟
    9.