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半導體製程設備 - 第 259 頁 - Google 圖書結果

第七章乾蝕刻機 7.1 緒論>乾蝕刻( dry etching )即是利用射頻( RF , radio frequency )電源,製造電漿( plasma ) ... 追溯電漿在 I.C.的應用,最早是用氧電漿來除去光阻。

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