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氧電漿蝕刻
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乾蝕刻原理
Radical是電中性,因為化學性質很活潑,所以和膜. PDF 檔案. 乾蝕刻沒有液態的蝕刻溶液,主要分為物理濺擊或離子銑削、電漿蝕刻、與介於兩者之間的活性離子蝕刻三類, ...
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