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氧電漿蝕刻
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Chapter 9 蝕刻
殘餘物• 適量的過蝕刻• 移除非揮發性的殘餘物– 足夠的離子轟擊可幫忙清除– 數量恰當的化學蝕刻亦可踢除• 氧電漿灰化製程(Oxygen plasma ashing):
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