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氧電漿蝕刻
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https://saturn.sipa.gov.tw/SPAEPI/pollutionControlTechnologyByFile.do?fdid=4965860b-ab19-4e80-b6cf-360e7ba5b48c&clickType=web
微波電漿應用於分解半導體製程尾氣之研究
本研究以微波電漿反應器處理半導體廠中乾蝕刻與清洗化學氣相沉積製程 ... 以CF4 為代表性氣體,並利用添加氧氣、氫氣及空氣,探討它們對分解去除效率.
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