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氧電漿蝕刻
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電漿晶圓蝕刻
低溫電漿的一個常見用途是在被稱為晶圓蝕刻的領域,其中電漿衝擊晶圓,以蝕刻各種 ... 在電漿材料處理中,電漿是用電容耦合法(CCP)或電感耦合法(ICP)或兩者的組合 ...
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