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第六章題庫：奈米科技之應用

光阻劑主要成分為有機物，在微影製程完成後可利用氧電漿蝕刻或有機溶劑加以移除。 ... 乾式蝕刻使用離子或電漿來加工，加工後的副產物即離開被加工物之表面。

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